今天給大家介紹一下半導體工藝廢水之處理方法，提供一種含有氧化劑、有機物、無機物、及氨氮等雜質(zhì)并由數(shù)股半導體工藝廢水匯集而成的綜合廢水的處理方法，并可包含NH4OH淋洗廢水處理、TMAH (四甲基氫氧化銨)黃光工藝廢水處理、或NH4F/F_廢水處理等個別處理。

水的回收再利用在目前氣候異常變遷的時代對高耗水工業(yè)成為必須的方案；工廠對外來的水源依賴必須大幅度的降低，以降低生產(chǎn)上不確定的因素。水回收率高解決了生產(chǎn)上不確定因素的問題，但也產(chǎn)生另一個議題環(huán)保排放超標問題。工廠使用的化學藥品量是固定的，一旦水的回收率高，導致排放的水量減少；相同的化學藥品用量造成了廢水排放濃度過高的問題，因而超標。

針對環(huán)境的議題，環(huán)保的單位也針對一些因新研究結(jié)果 而發(fā)現(xiàn)對環(huán)境有不好影響的物質(zhì)加以嚴格管制，諸如氨氮、總氮(TN)、總磷(TP)。還有一些放流水質(zhì)標準雖已有管制，但在未來仍可能需要更嚴格的管制，諸如生化需氧量(BOD)、化學需氧量(C0D)、及懸浮固體(SS)。

半導體工業(yè)廢水所含污染物的種類復雜(含有機、無機、氧化物、氨氮及氟化物等)，目前的半導體廠對于水處理的策略是先將經(jīng)工藝使用過的水進行精準的分類，目前極端的作法是將其分作22類廢水。

含雜質(zhì)濃度較低的直接收集回收作水源；有的雜質(zhì)高一點的經(jīng)R0、離子交換或混凝沉淀處理后再回收用作為水源；其余的水就直接作廢水排放。現(xiàn)行半導體廠的廢水排放是半導體廠內(nèi)部不同工藝廢水逐步匯集成為一至三股大量復雜性廢水，再匯集成一股排出工廠。這幾股大量廢水或上游小量體系的廢水名稱眾多紛擾，但大都依其水質(zhì)內(nèi)容物被命名如下，諸如綜合廢水、NH4F/F_廢水、F—廢水、高濃度氨氣淋洗廢水、淋洗廢水、TMAH黃光廢水、臭氧洗凈水、純水系統(tǒng)反洗水等。由于各家電子產(chǎn)品工藝不同、所使用之藥品不同，加上在建廠時規(guī)劃前段廢水回收情況和工藝廢水水質(zhì)分類不同，故各廠各大量及小量體系廢水的組成、水質(zhì)的變化相當大。

半導體工藝廢水匯集成的綜合廢水的處理方法，該綜合廢水不含NH4F/HF緩沖的氧化物蝕刻液，而基本上含有氧化劑、有機物、無機物、及氨氮雜質(zhì)。首先對該綜合廢水進行去氧化劑處理；接著以無氧微生物分解方式進行處理，使其中所含的雜質(zhì)被部份分解；再以有氧微生物分解方式進行處理，使殘留于其中的有機物及氨氮被進一步分解，而得到可回收或排放的廢水。進一步包含對NH4OH淋洗廢水、TMAH黃光工藝廢水、或NH4F/F-廢水進行個別處理的步驟，及將此等個別處理所得到廢水整合于該綜合廢水的處理方法。

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